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上海制造——上海微电子装备(集团)股份有限公司

上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。

SMEE致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候、全方位、全身心地为顾客提供优质产品和技术服务。

SMEE已通过ISO27001信息安全、ISO9000质量管理和ISO14001环境管理等体系的国际认证,力求为客户提供持续、稳定、高品质的产品和服务,并履行一个优秀的高科技企业的社会责任。

SMEE已通过GB/T29490企业知识产权管理规范认证,先后被评为"上海市专利工作和知识产权示范企业"、"国家级知识产权示范企业"、"国家企业技术中心"。


7.2H-E151 高分辨率6代小Mask投影曝光机

本产品项目组基于已经成功开发的4.5代投影曝光机所积累的技术经验,进一步攻克了各项关键技术,包括6代大负载主动减振及框架系统、大行程高精度工件台系统、高精度双掩模台系统、双投影物镜系统、高功率照明系统、大尺寸调焦调平系统、高精度光电测量系统、全自动基板传输系统及整机系统设计与系统集成,并对相关技术方案进行工程验证,最终创新性完成高分辨率6代小Mask投影曝光机的研制工作。该产品于2017年12月完成整机集成和首台发货。

本产品是国内首台6代投影曝光机,项目的研制成功填补了国内该领域设备的技术空白,打破国外的垄断和技术封锁。本产品创新性采用了独特的双投影曝光系统和双掩模台加单基板台的架构,实现使用6英寸双掩模同时在6代基板上的扫描曝光,而且分辨率达到国际先进水平。和竞争产品相比,本产品采用6英寸掩模方案更能显著节约掩模成本,在客户使用成本方面具有不可替代的优势。



6.2H A001-A004 600系列90nm IC前道投影光刻机

IC前道投影光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备,其集精密光学、机械、控制、材料等先进科技和工程技术于一体,是集成电路装备中技术难度最高的关键设备,而国内企业起步晚、基础弱,先进光刻机设备的核心技术一直被国外半导体设备巨头垄断。

600系列IC前道光刻机完全拥有自主知识产权,目前申请或授权的包括国际发明专利在内的专利共756项,包含多项创新技术:高分辨率、大数值孔径和曝光视场的投影物镜,高速高精度运动台同步技术,以及精确的调焦调平和对准先进光信号处理等技术,这些技术均处于国内最高水平,并达到同类产品的世界领先水平。同时,600系列IC前道光刻机采用扫描光刻机模块化平台技术,具有良好的功能扩展性和动态性能。


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